09:30 〜 11:30 [6a-PA9-2] 原子層堆積法によりGe基板上に形成したAl2O3への酸素ラジカル照射がAl2O3/p-Ge界面特性に及ぼす影響 〇山田 大地1、王谷 洋平1、山本 千綾2、山中 淳二2、佐藤 哲也2、岡本 浩3、福田 幸夫1 (1.諏訪東京理科大、2.山梨大、3.弘前大)