一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料
10:00 〜 10:15
〇増田 泰造1、伊與田 充優2、安松 優太2、遠藤 雅守2 (1.トヨタ自動車、2.東海大理)
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10:15 〜 10:30
〇伊與田 充優1、安松 優太1、増田 泰造2、遠藤 雅守1 (1.東海大理、2.トヨタ自動車)
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10:30 〜 10:45
〇野村 雄高1,2、藤 貴夫1 (1.分子研、2.JSTさきがけ)
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10:45 〜 11:00
〇(M1)Jiang Hongbo1、Yu Wang1、Sze Y. Set1、Shinji Yamashita1 (1.Tokyo Univ.)
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11:00 〜 11:15
〇深津 智耀1、セット ジイヨン1、山下 真司1 (1.東大)
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11:15 〜 11:30
〇鈴木 将之1、黒田 寛人1 (1.愛知医大)
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11:30 〜 11:45
〇三井 晨太郎1、吉岡 宏晃1、三上 裕也1、興 雄司1 (1.九州大工)
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11:45 〜 12:00
〇Hung JuiHung1、Lung-Han Peng2、Hiroyuki Yokoyama1 (1.NICHe, Tohoku Univ.、2.GIPO, National Taiwan Univ.)
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