[5p-S22-3~4] 8.8 Plasma Electronics English Session

2017年9月5日(火) 14:30 〜 15:00 S22 (パレスB)

酒井道(滋賀県立大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

14:30 〜 14:45

▲ [5p-S22-3] Evaluation of Nickel Self-Sputtering Yields by Molecular Dynamics Simulation

〇Nicolas Aini Mauchamp¹、Michiro Isobe¹、Satoshi Hamaguchi¹ (1.Osaka University)

14:45 〜 15:00

〇Fumiyoshi Tochikubo¹、Yuya Yamazaki¹、Takumi Hanawa¹、Naoshi Kitakaze¹、Naoki Shirai²、Satoshi Uchida¹ (1.Tokyo Metropolitan Univ.、2.Hokkaido Univ.)