一般セッション(ポスター講演)
3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学
2017年9月7日(木) 09:30 〜 11:30 PA3 (国際センター1F)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:30 〜 11:30
〇相沢 美帆1、久野 恭平1、赤松 範久1、宍戸 厚1,2 (1.東工大化生研、2.JSTさきがけ)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇松本 浩輔1、久野 恭平1、赤松 範久1、宍戸 厚1,2 (1.東工大化生研、2.JSTさきがけ)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇梁瀬 智1、内田 勝1 (1.秋田産技センター)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇金城 秀和1、青島 賢一1、平野 芳邦1、麻生 慎太郎1、町田 賢司1、菊池 宏1 (1.NHK技研)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
李 其昌2、郁 樹逹3、陳 曉西1、〇葉 茂1 (1.電科大、2.成都微晶、3.超多維)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇西尾 知哲1、江上 力1 (1.静岡大学工)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇(M2)中田 慎二1、江上 力1 (1.静岡大工)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇高木 雅弘1、江上 力1 (1.静岡大学工)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇(M2)井口 翼1、佐藤 慶介1、平栗 健二1 (1.東京電機大工)
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09:30 〜 11:30
〇(M1)三賀 崇広1、新保 一成1、馬場 暁1、大平 泰生1 (1.新潟大)
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09:30 〜 11:30
〇佐野 陽之1、桑原 正史2、水谷 五郎3 (1.石川高専、2.産総研、3.北陸先端大)
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09:30 〜 11:30
〇磯田 和貴1,2、永田 晃基1、海老澤 瑞枝1、大谷 幸利2 (1.都産技研、2.宇都宮大)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇山本 賢吾1、山下 勲2、高林 正典1、岡本 卓1 (1.九工大情報工、2.東ソー)
スケジュール
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09:30 〜 11:30
〇(M1)小野内 雄一1、工藤 幸寛1、高橋 泰樹1 (1.工学院大)
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09:30 〜 11:30
〇池田 優祐1、山田 逸成1 (1.滋賀県立大工)
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09:30 〜 11:30
泉 彩加1、熊岡 健太郎1、岸口 光一1、佐藤 浩平1、〇杉田 篤史1 (1.静大工)
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09:30 〜 11:30
〇斉藤 昴1、王 胖胖1、岡本 晃一1、龍崎 奏1、玉田 薫1 (1.九大先導研)
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