一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
2017年9月7日(木) 09:00 〜 11:15 S45 (第6会議室)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇佐藤 正健1、川口 喜三1、秋山 陽久1、大村 英樹1 (1.産総研)
スケジュール
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09:15 〜 09:30
〇岩田 博之1、坂 公恭1、河口 大祐2 (1.愛知工業大、2.浜松ホトニクス)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇弘中 陽一郎1、三浦 永祐3、黒田 隆之助3、宮西 宏併1、重森 啓介1、松岡 健之2、尾崎 典雅2、兒玉 了祐1、栗田 隆史4、栗田 典夫4、渡利 威士4、水田 好雄4、壁谷 悠希4 (1.阪大レーザー研、2.阪大工学部、3.産総研、4.浜松ホトニクス)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇奈良崎 愛子1、佐藤 正健1 (1.産総研)
スケジュール
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10:15 〜 10:30
西川 隼人1、〇中嶋 隆1 (1.京大エネ研)
スケジュール
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10:30 〜 10:45
〇野尻 秀智1,2、大越 昌幸1 (1.防衛大、2.レニアス)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇山崎 佑起1、佐藤 俊一1 (1.東北大多元研)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
王 浩浩1、小田原 修1、〇和田 裕之1 (1.東工大物質理工)
スケジュール
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