一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学
2017年9月8日(金) 09:00 〜 12:15 C17 (研修室2)
石飛 秀和(阪大)、尾下 善紀(ニコン)、片山 龍一(福岡工大)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:30
〇中野谷 一1、安達 千波矢1 (1.九大・OPERA)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇富田 康生1、梅本 浩一2、吉永 和夫1、藪田 湖納美1、Juergen Klepp3、Christian Pruner4、Martin Fally3 (1.電通大院基盤理工、2.（株）ダイセル、3.ウィーン大、4.ザルツブルグ大)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇富成 征弘1、青木 勲1、山田 俊樹1、大友 明1 (1.情通機構)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇朱 峻鋒1、樋口 宏和1、吉岡 宏晃1、森田 金市2、興 雄司1 (1.九州大工、2.ウシオ電機)
スケジュール
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10:15 〜 10:30
〇垣内田 洋1、荻原 昭文2、松山 明彦3 (1.産総研、2.神戸高専、3.九工大)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇(M1)池田 祐希1、岡 寿樹1、新保 一成1、大平 泰生1 (1.新潟大工)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇松原 譲1、野田 浩平1、河合 孝太郎1、坂本 盛嗣1、佐々木 友之1、川月 喜弘2、後藤 耕平3、小野 浩司1 (1.長岡技科大、2.兵庫県立大、3.日産化学工業（株）)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇石田 智大1、三尾 典克1 (1.東大工)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
〇野田 浩平1、河合 孝太郎1、坂本 盛嗣1、佐々木 友之1、川月 喜弘2、後藤 耕平3、小野 浩司1 (1.長岡技科大、2.兵庫県立大、3.日産化学工業（株）)
スケジュール
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11:45 〜 12:00
〇斉藤 慎太郎1、後藤 祐紀1、河村 希典1、佐藤 進2 (1.秋田大院理工、2.液晶レンズ研究所)
スケジュール
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12:00 〜 12:15
〇澁谷 義一1、阿部 寿1、玉置 亜希子1、山野 翔平1、吉田 浩之1、尾﨑 雅則1 (1.阪大院工)
スケジュール
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