シンポジウム(口頭講演)
[6p-A202-1~7] 酸化物のテラヘルツ光物性とデバイス応用への展望
2017年9月6日(水) 13:30 〜 17:30 A202 (202)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 14:30
〇斗内 政吉1 (1.阪大レーザー研)
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14:30 〜 15:00
〇佐藤 琢哉1 (1.九大理)
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15:00 〜 15:30
〇服部 梓1,2、 Nguyen T. V. Anh1、 永井 正也3、 芦田 昌明3、 田中 秀和1 (1.阪大産研、2.JSTさきがけ、3.阪大基礎工)
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15:45 〜 16:15
〇永妻 忠夫1 (1.阪大基礎工)
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16:15 〜 16:45
〇片山 郁文1 (1.横浜国大工)
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16:45 〜 17:00
〇森本 智英1、 永井 正也1、 芦田 昌明1、 横谷 洋一郎2、 可児 幸宗3 (1.阪大基礎工、2.阪大、3.パナソニック)
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17:00 〜 17:30
〇門脇 和男1、 Asem Elarabi6、 Zhong Junlan1、 田中 大河1、 湯浅 拓実1、 小守 優貴1、 太田 隆晟1、 桑野 元気1、 田邊 祐希1、 中村 健人1、 大野 雪乃1、 金子 陽太1、 辻本 学2、 柏木 隆成1、 南 英俊1、 山本 卓3、 Delfanazari Kaveh4、 Klemm Richard5 (1.筑波大数理物質、2.Argonne Nat. Lab.、3.Delft工科大、4.ケンブリッジ大、5.フロリダ中央大、6.京都大工)
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