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[5a-A414-9] 低コヒーレンス干渉とK-K解析によるサンプル内屈折率計測法の基礎検討
キーワード：干渉計
光干渉断層計による断層計測技術の研究が進む中，我々は干渉計から得られる干渉信号が試料各界面の反射光によって生成されることに着目し，干渉信号をフーリエ変換することで反射光の電界スペクトルを個別に取得し， K-K解析を適用することで試料内部の断層構造と屈折率を同時に取得する手法を考案した．本稿では原理実証のため，層構造を持つ試料の媒質ごとの屈折率スペクトルを求める実験を行った．