[5a-C11-1~11] 13.3 絶縁膜技術

[5a-C11-1] GeO₂/Ge構造におけるKr/O₂プラズマ処理効果の検討

〇多田 優威¹、岩崎 好孝¹、上野 智雄¹ (1.農工大工)

キーワード：半導体