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一般セッション(口頭講演)

10 スピントロニクス・マグネティクス » 10.1 新物質・新機能創成（作製・評価技術）

[5a-C18-1~12] 10.1 新物質・新機能創成（作製・評価技術）

10.1と10.2と10.3のコードシェアセッションあり

2017年9月5日(火) 09:00 〜 12:00 C16 (研修室1)

近藤剛(東芝)、長浜太郎(北大)

10:45 〜 11:00

[5a-C18-8] Mn₄N上Fe₄N垂直磁化積層膜の作製

〇(M1C)安西聡仁¹、花島隆泰²、具志俊希¹、高田郁弥¹、都甲薫¹、末益崇¹ (1.筑波大数理、2.CROSS東海)

キーワード：分子線エピタキシー、垂直磁化、偏極中性子反射率測定