2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[5a-C21-1~9] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2017年9月5日(火) 09:00 〜 11:30 C21 (C21)

影山 健生(東大)

11:15 〜 11:30

[5a-C21-9] 光学顕微鏡マニピュレーションによるSi(111)上InGaAs単一microdiscの電流電圧特性評価

〇(D)渡邉 冬馬1、石田 丈2、岩本 敏2、荒川 泰彦2、中野 義昭1、杉山 正和3 (1.東大工、2.東大生産研、3.東大先端研)

キーワード:微小領域選択成長