[5a-S44-1~11] 【CS.9】7.1 X線技術と7.4 量子ビーム界面構造計測のコードシェアセッション

[5a-S44-10] E U V 光源ターゲットのアブレーションによる粒子発生のモデル構築

〇佐々木 明¹、砂原 淳²、西原 功修³、西川 亘⁴ (1.量研機構、2.パデュー大、3.阪大レーザー研、4.岡山大)

キーワード：流体シミュレーション、レーザーアブレーション、状態方程式

次世代半導体リソグラフィ用レーザープラズマEUV光源の実用化に重要な、プラズマの密度分布の最適化や、照射後残留するデブリ粒子の抑制方法を明らかにするためのシミュレーション研究について述べる。ラグランジ流体シミュレーションにメッシュの動的再配置アルゴリズムを導入することにより、レーザーアブレーションの過程における、気液相転移を経た粒子、気泡の生成ダイナミクスの解析を行う。