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[5a-S44-2] 原子状水素を用いたNiコートミラーの炭素汚染の除去
キーワード:軟X線ミラー、汚染物除去、原子状水素
原子状水素の照射(AHA処理)により、放射光ビームライン用ミラー上の炭素汚染を除去し、その処理前後での反射率等を評価した。汚染物の厚みは光干渉膜厚計で測定して、最大箇所で10 nmであったが、1 hrの原子状水素照射によって、目視で僅かに痕跡が見える程度に汚染物を除去できた。今回の処理では、沈着した汚染物が、最大1 nm程度残っていたが、汚染物が厚く堆積した領域でも、反射率を10 → 70 %程度まで回復することができた。