2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[5p-C21-1~13] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2017年9月5日(火) 13:45 〜 17:15 C21 (C21)

満原 学(NTT)、赤羽 浩一(NICT)

17:00 〜 17:15

[5p-C21-13] Se処理GaAs(111)B表面の安定化機構

大竹 晃浩1、後藤 俊治2、中村 淳2 (1.物材機構、2.電通大)

キーワード:表面再構成、パッシベーション、III-V族化合物半導体

Se処理したGaAs(111)B-(1x1)表面の原子配列をRHEED、XPS、STMによって決定し、その安定性を第一原理計算によって評価した。(111)B理想表面の最外層において3/4MLのAsをSeが置き換えることによって表面が安定化することが明らかとなった。