2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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[5p-PA1-1~82] 17 ナノカーボン(ポスター)

2017年9月5日(火) 13:30 〜 15:30 PA1 (国際センター1F)

13:30 〜 15:30

[5p-PA1-24] ペンタセン原料を用いたCu基板上へのグラフェンの低温形成

部家 彰1、松尾 直人1 (1.兵庫県立大工)

キーワード:グラフェン、ペンタセン、低温形成

加熱触媒体(タングステンメッシュ)を用いた低温薄膜形成法(ホットメッシュ堆積(HMD))により原料としてペンタセンを用い、Cu基板上へのグラフェン低温形成を試みた。本手法ではペンタセンおよび水素は加熱Wメッシュ上で分解され、Cu基板上で薄膜が形成される。ラマンスペクトルではグラフェンに起因するGおよびDバンドピークが観測され、本手法により250℃程度の低温でもグラフェンを形成可能であることが明らかとなった。