[5p-PA2-1~29] 12.1 作製・構造制御

[5p-PA2-14] ミストデポジション法によるα-NPD薄膜の成膜

〇平松 考樹¹、香取 重尊¹、人羅 俊実² (1.津山高専、2.㈱フロスフィア)

キーワード：ミストデポジション、正孔輸送層、ジフェニルナフチルジアミン

有機ELの効率と寿命の最適化には，キャリアの注入効率を制御することが重要になる．本研究では，ミストデポジション法によるα-NPD薄膜の成膜とその膜質制御を試みた．膜質を制御するために，ミスト輸送時の希釈ガスの流量を検討した．得られた薄膜に対し，紫外可視分光法，フォトルミネッセンス法，レーザー顕微鏡観察により評価を行った．成膜温度や輸送ガスの流量を変えることにより，表面構造が変化することが明らかとなった．