2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

12 有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.1 作製・構造制御

[5p-PA2-1~29] 12.1 作製・構造制御

2017年9月5日(火) 16:00 〜 18:00 PA2 (国際センター1F)

16:00 〜 18:00

[5p-PA2-17] カルボキシ基を有するアクリル高分子薄膜のイオンアシスト蒸着重合

〇(M1)小室 雄司1、田中 邦明1、臼井 博明1 (1.農工大院工)

キーワード:アクリル、イオンアシスト、蒸着

我々は基板表面にイオンビームを照射しつつ、アクリルモノマーを蒸着することで、高分子膜が得られることを見出した。本研究では、イオンアシスト蒸着重合によりカルボキシル基を有するモノマーから高分子薄膜を作製した。また、作製した薄膜の赤外吸収および表面モルフォロジーの観察を行い、膜の評価を行った。