[5p-PA2-1~29] 12.1 作製・構造制御

[5p-PA2-27] Alq₃薄膜へのロータリーカソードAlスパッタダメージ評価Ⅱ

〇菅原 洋紀¹、内田 敏治¹、竹見 崇¹、青沼 大介¹ (1.キヤノントッキ(株))

キーワード：スパッタリング

有機ELパネルの更なる大型化に向けて，スパッタリングによる上部電極製膜を検討している．本研究では，Alロータリーカソードの内部マグネットの角度と成膜位置によるダメージ量をAlq₃薄膜のフォトルミネッセンス(PL)測定により評価した．静止成膜の結果，成膜時間が長くなるにつれてPL強度が低下した．200 nmのAl膜厚でもスパッタダメージを受けることがわかった．