[5p-PB3-1~26] 16.3 シリコン系太陽電池

[5p-PB3-14] テクスチャ化シリコン基板へのミストコート法による反射防止膜の形成

越阪部 卓¹、安田 拓人¹、菅野 貴史¹、氷室 貴大¹、〇齋藤 洋司¹ (1.成蹊大院理工)

キーワード：ゾル・ゲル、反射防止膜、テクスチャ

ミストコート法を用いての成膜を試み、製造工程の簡略化と低コスト化も行いつつ、反射率の低減を目指す。これまで、SiO₂、TiO₂の成膜を行ってきたがSiO₂では屈折率が低くTiO₂では溝部にクラックが生じ、いずれも反射率低減は不充分であった。そのため新たな材料としてZnOを用い、成膜を試みた。