2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

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[5p-PB3-1~26] 16.3 シリコン系太陽電池

2017年9月5日(火) 13:30 〜 15:30 PB3 (国際センター2F)

13:30 〜 15:30

[5p-PB3-15] テクスチャ化単結晶シリコン基板上へのスピンコート法による酸化亜鉛反射防止膜の形成

近藤 颯平1、氷室 貴大1、〇齋藤 洋司1 (1.成蹊大院理工)

キーワード:反射防止膜、スピンコート、テクスチャ

真空装置を用いず低コストかつ簡易に成膜できるスピンコート法による成膜を試みている。これまでTiO2を使用していたが、テクスチャ化した基板に成膜した際、熱膨張係数の違いからひび割れが生じ、反射率低減が不十分であった。本研究ではシリコン基板と熱膨張係数の値が近いZnOを使用したところ、ひび割れせずに成膜できた。