The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

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Oral presentation

7 Beam Technology and Nanofabrication » 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

[5p-S42-1~15] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

Tue. Sep 5, 2017 1:15 PM - 5:45 PM S42 (Conf. Room 2)

Toru Yamaguchi(NTT), Jiro Yamamoto(HITACHI), Jun Taniguchi(Tokyo Univ. of Sci.)

1:45 PM - 2:00 PM

[5p-S42-3] Evaluation of Triblock Copolymer Structure using Soft X-Ray Scattering

〇(M2)Yusuke Nakatani1, Tetsuo Harada1, Atsushi Takano2, Motoyuki Yamada1, Takeo Watanabe1 (1.Univ. of Hyogo, 2.Nagoya Univ.)

Keywords:DSA, Soft X-Ray Scattering, Block Copolymer

硬X線散乱測定は、物質の構造を定量的に評価できる方法として広く用いられている。しかし、トリブロックポリマーなど3種類以上のポリマーが混在すると、平均化された構造が観察され、個々のポリマー構造を評価することは困難である。そこで我々は、軟X線散乱測定法を開発した。ポリマー材料の軟X線吸収スペクトルは、炭素吸収端近傍のエネルギーで大きく変化するため、散乱プロファイルから個々のポリマーの構造を評価できる。