2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[5p-S42-1~15] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2017年9月5日(火) 13:15 〜 17:45 S42 (第2会議室)

山口 徹(NTT)、山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)

13:45 〜 14:00

[5p-S42-3] 軟X線散乱を用いたトリブロック共重合体構造の評価

〇(M2)中谷 侑亮1、原田 哲男1、高野 敦志2、山田 素行1、渡邊 健夫1 (1.兵県大、2.名古屋大)

キーワード:誘導自己組織化、軟X線散乱、ブロック共重合体

硬X線散乱測定は、物質の構造を定量的に評価できる方法として広く用いられている。しかし、トリブロックポリマーなど3種類以上のポリマーが混在すると、平均化された構造が観察され、個々のポリマー構造を評価することは困難である。そこで我々は、軟X線散乱測定法を開発した。ポリマー材料の軟X線吸収スペクトルは、炭素吸収端近傍のエネルギーで大きく変化するため、散乱プロファイルから個々のポリマーの構造を評価できる。