[6a-C22-1~11] 22.1 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」

[6a-C22-7] マテリアルズ・インフォマティクスを適用した低熱伝導率Si/Ge積層構造の探索

〇高橋 憲彦¹、劉 宇¹、金田 千穂子¹ (1.富士通研)

キーワード：Si/Ge積層構造、熱伝導率、フォノン

積層のさせ方を変えた複数のSi/Ge積層構造に対して、フォノンモード計算によりモードごとの空間的な局在性を表すParticipation Ratio (P値)の積層方向(z方向)成分Pzを求め、分子動力学法により計算した積層方向の熱伝導率との相関を調べた。P値と比較してPzは熱伝導率との相関が明らかに強く、Pzを記述子として用いることで低熱伝導率構造の絞り込み精度を向上させることが可能である。