2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.6 IV族系化合物(SiC)

[6p-A201-1~20] 15.6 IV族系化合物(SiC)

2017年9月6日(水) 13:30 〜 19:00 A201 (201)

原田 俊太(名大)、加藤 正史(名工大)、三谷 武志(産総研)

17:00 〜 17:15

[6p-A201-14] n型4H-SiC溶液成長における表面平坦性と多形安定性に対する添加剤の効果

〇(PC)小松 直佳1、三谷 武志1、林 雄一郎1、加藤 智久1、奥村 元1 (1.産総研)

キーワード:SiC、溶液法、表面

n型4H-SiC溶液成長では表面平坦性を向上させつつも、電気伝導度を低下させることのない添加剤が望まれる。そこで、本研究ではSi0.6Cr0.4溶媒への種々添加剤、特に遷移金属の添加に対し、成長結晶表面の平均マクロステップ高さの変化と多形安定性、キャリア濃度について調査した。