[6p-A204-1~23] 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

[6p-A204-13] Characterization of Ta oxide barrier layer in silicon solar cells with Cu lines

〇Yuki Aoyama¹, Daisuke Ando¹, Yuji Sutou¹, Junichi Koike¹ (1.Tohoku Univ.)

Keywords:solar cell

近年、Si系太陽電池の製造コスト低減を進めるために、集電電極に用いられるAgペーストを安価なCuペーストへ転換する試みがなされている。しかし、CuはSi中を非常に速く拡散してしまうため、Cuの拡散を防ぐバリア層が不可欠である。本研究では、Ta酸化物を拡散バリア層として選択し、スクリーン印刷Cu電極/単結晶Si太陽電池界面にバリア層を導入することで、良好な変換効率を得ることができるか調査した。