2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[6p-A204-1~23] 16.3 シリコン系太陽電池

2017年9月6日(水) 13:00 〜 19:30 A204 (204)

高濱 豪(パナソニック)、齋 均(産総研)、宮島 晋介(東工大)

17:00 〜 17:15

[6p-A204-14] 青色レーザーを用いたCu電極とSi太陽電池基板間のコンタクト形成

雑賀 真晃1、安藤 大輔1、須藤 祐司1、坂本 隼規2、諏訪 雅也2、東條 公資2、山蔭 康弘2 (1.東北大院工、2.島津製作所)

キーワード:シリコン系太陽電池、電極形成、レーザー開口

Si太陽電池の表面電極形成には、Agペーストをスクリーン印刷しファイヤースルー処理を施す手法が幅広く用いられている。しかしながら、太陽電池の製造コストの低減のために、SiN反射防止膜の選択的な開口を用いたCu電極形成法への転換が望まれている。本研究では、青色レーザーを用いてSiNを開口することでCu/Siのコンタクトを形成した。これにより6インチサイズのセルから17.0%の変換効率を実現した。