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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.8 光計測技術・機器

[6p-A414-1~21] 3.8 光計測技術・機器

2017年9月6日(水) 13:15 〜 19:00 A414 (414)

塩田達俊(埼玉大)、安井武史(徳島大)、時実悠(理研)

16:45 〜 17:00

△ [6p-A414-14] CeF₃薄膜を用いた紫外センサのフッ素欠陥の影響

〇(M2)山崎亮¹、鈴木健太郎¹、大谷潤¹、小野晋吾¹、加瀬征彦² (1.名工大、2.ウシオ電機)

キーワード：センサ、フッ化物、紫外線