[6p-C23-1~16] 6.4 Thin films and New materials

△ [6p-C23-5] Structural and characteristic modification of layered La-Ni-O thin films by post-annealing under uniaxial compression

〇Ryotaro Nanba¹, Shoyo Ito¹, Nobuo Tsuchimine², Satoru Kaneko^3,1, Akifumi Matsuda¹, Mamoru Yoshimoto¹ (1.Tokyo Tech. Materials, 2.TOSHIMA Manu. Co., Ltd., 3.KISTECH)

Keywords:La-Ni-O thin films, post-annealing under uniaxial compression, Structural and characteristic modification

層状ペロブスカイト型遷移金属酸化物である酸化ニッケルランタン (La_n+1Ni_nO_3n+1)は，Ruddlesden Popper構造をとりユニットセル内の八面体層の数によって構造と物性が変化する．La-Ni-O系薄膜はNiイオンの価数，結晶相および結晶性制御により電子構造の変調や新規電子機能の発現を期待できる．本研究では，Niイオンの化学状態と結晶相，結晶性制御による導電性の制御を目的とし，La₃Ni₂O_7−δ薄膜の一軸加圧下熱処理が結晶相と導電性に及ぼす影響を検討した.