The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

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Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[6p-C23-1~16] 6.4 Thin films and New materials

Wed. Sep 6, 2017 1:45 PM - 6:15 PM C23 (C23)

Yoshinobu Nakamura(Univ. of Tokyo), Hiroaki Nishikawa(Kinki Univ.)

4:15 PM - 4:30 PM

[6p-C23-9] Fabrication and characterization of spinel type oxynitride Fe3O4−xNy epitaxial thin films

Satoshi Fujiwara1, Yasushi Hirose1, Isao Harayama2, Yumi Watahiki2, Daiichiro Sekiba2, Tetsuya Hasegawa1 (1.Univ. of Tokyo, 2.Univ. of Tsukuba)

Keywords:oxynitride, magnetite, magnetic semiconductor

Fe3O4は様々なカチオンの導入による電気・磁気的性質の変調が報告されている一方で、アニオン置換に関する報告は少ない。N3−置換体であるFe3O4−xNyについては薄膜合成の例があるものの、詳細な物性は報告されていない。本研究ではアニオン置換の効果を調べるために窒素量を制御したFe3O4−xNyエピタキシャル薄膜を合成し、物性評価を行った。その結果Fe3O4薄膜への窒素導入により低温での電荷秩序化が抑制され低抵抗化することが明らかになった。