2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[6p-C23-1~16] 6.4 薄膜新材料

2017年9月6日(水) 13:45 〜 18:15 C23 (C23)

中村 吉伸(東大)、西川 博昭(近畿大)

16:15 〜 16:30

[6p-C23-9] スピネル型酸窒化物Fe3O4−xNyエピタキシャル薄膜の合成と物性評価

藤原 聡士1、廣瀬 靖1、原山 勲2、綿引 悠美2、関場 大一郎2、長谷川 哲也1 (1.東大院理、2.UTTAC)

キーワード:酸窒化物、マグネタイト、磁性半導体

Fe3O4は様々なカチオンの導入による電気・磁気的性質の変調が報告されている一方で、アニオン置換に関する報告は少ない。N3−置換体であるFe3O4−xNyについては薄膜合成の例があるものの、詳細な物性は報告されていない。本研究ではアニオン置換の効果を調べるために窒素量を制御したFe3O4−xNyエピタキシャル薄膜を合成し、物性評価を行った。その結果Fe3O4薄膜への窒素導入により低温での電荷秩序化が抑制され低抵抗化することが明らかになった。