[6p-PA2-1~7] 3.7 レーザープロセシング

[6p-PA2-3] 真空紫外レーザーによって形成されたシリコーンゴム表面の微細隆起構造の形状制御

〇松永 亮太¹、大越 昌幸¹ (1.防衛大)

キーワード：ArFエキシマレーザー、Al薄膜、微細隆起構造

厚さ2 mmのシリコーンゴム表面に，予めAl薄膜を膜厚約10 nmで真空蒸着した．次に，そのAl薄膜上に，直径2.5 µmのシリカガラス製微小球を単層で整列させた．その後，試料上方から，ArFエキシマレーザーをフルエンス10 mJ/cm²，パルス繰り返し周波数1 Hz，ショット数1 ～3600の範囲で照射した．その結果，Al薄膜の蒸着を施さなかった場合，円錐台の形状となるのに比べ，試料表面には直径約1 mm，高さ1～1.3 mmのピラー状構造の形成が認められた．