[6p-PA8-1~31] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[6p-PA8-7] DMAHを用いて成膜したAl₂O₃/GaN MOSの評価

〇上沼 睦典¹、高橋 清²、曽根原 翔¹、赤野 拓哉¹、藤本 裕太¹、石河 泰明¹、浦岡 行治¹ (1.奈良先端大、2.日本アルキルアルミ)

キーワード：GaN、DMAH