[7a-A405-1~10] 3.12 ナノ領域光科学･近接場光学

[7a-A405-7] 近接場光援用過程による錯体の長波長励起

〇中平 優佑¹、中村 勇生¹、信定 克幸²、森本 樹³、吉田 朋子⁴、八井 崇¹ (1.東大院工、2.分子研、3.東京工科大工、4.大阪市立大)

キーワード：近接場光、人工光合成

近年、二酸化炭素を削減するための人工光合成について世界中で研究が進められているが、どの方法もまだ変換効率が低く実用化に至っていない。変換効率を高めるためには二酸化炭素の還元材料における光吸収効率を向上させることが重要である。
そこで本研究では、近接場光援用過程の効果を利用し、レニウム錯体の吸収特性を改善することを目標とする。