2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[7a-C17-1~12] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2017年9月7日(木) 09:00 〜 12:15 C17 (研修室2)

西中 浩之(京都工繊大)

09:45 〜 10:00

[7a-C17-4] アンモニアガス雰囲気中熱処理によるZnO薄膜への窒素添加

竹之内 真人1、和田 祥平1、田之上 博信1、本郷 直哉1、永岡 昭二3,4、谷田部 然治1,2、中村 有水1,4 (1.熊大院自然科学、2.熊大院先導機構、3.熊本産業技術センター、4.くまもと有機薄膜センター)

キーワード:酸化亜鉛、ミスト化学気相成長法、窒素ドーピング