10:45 AM - 11:00 AM
△ [7a-C17-7] Sputter-fabrication of high-quality ZnO films on Si(111) substrates via nitrogen mediated crystallization
Keywords:zinc oxide, sputtering
最近我々はZnO膜のスパッタエピタキシー法として新たに窒素添加結晶化法を開発し,超平坦表面を有し,且つ,面内・面外ともに結晶軸が揃った高密度3次元島を有する薄膜をバッファー層として用いることで,従来困難であった格子不整合率18%であるc面サファイア基板上への単結晶ZnO膜の作製に成功した.本研究では上記手法をSi(111)基板上に展開し,結晶性および表面平坦性に優れたZnO膜を形成することに成功したので報告する.