[7a-PA6-1~14] 6.1 Ferroelectric thin films

[7a-PA6-5] Deposition of Oxynitride perovskite LaTiO₂N thin films by Radio-Frequency magnetron sputtering

〇Tadahiko Inoue^1,2, Eishiro Murakami^1,2, Masataka Inoue^1,2, Yutaka Adachi², Takeshi Ogaki², Naoki Ohashi^1,2,3 (1.Kyushu Univ., 2.NIMS., 3.MCES.)

Keywords:Oxynitride perovskite, LaTiO2N

本研究は次世代型の電子材料の開発に向け、ペロブスカイト型酸窒化物について研究を行った。具体的には、高周波マグネトロンスパッタ法と呼ばれる製膜技術を用いて，ランタンチタン酸化物（La₂Ti₂O₇）の焼結体とアルゴン／窒素混合ガス（Ar/N₂）を反応させることによって，ランタンチタン酸窒化物（LaTiO₂N）の薄膜結晶の合成を行った。特に、混合ガス中の窒素濃度（5～75%）が薄膜結晶の膜組成や膜構造に与える影響を調査した。