The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

Presentation information

Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.4 III-V-group nitride crystals

[7p-A301-1~20] 15.4 III-V-group nitride crystals

Thu. Sep 7, 2017 1:15 PM - 6:45 PM A301 (Main Hall)

Ryuji Katayama(Osaka Univ.), Mitsuru Funato(Kyoto Univ.), Hiroto Sekiguchi(Toyohashi University of Technology)

1:30 PM - 1:45 PM

[7p-A301-2] Design of GaN Monolithic Doubly-Resonant Microcavity SHG Device

〇(M1)Tomoaki Nambu1, Masahiro Uemukai1, Ryoken Fuji1, Tomoya Yamada1, Yasufumi Fujiwara1, Ryuji Katayama1 (1.Graduate School of Eng., Osaka Univ.)

Keywords:GaN, Microcavity, SHG

窒化物半導体結晶は高い光損傷耐性と光学非線形性を有するが、高効率な波長変換に必要な周期分極反転構造の形成が困難である。そこで本研究では、GaN共振器両側に高反射率ブラッグ反射鏡を設け共振器内で励起光強度を増強し、SH波を同位相で出力する、結晶方位の反転が不要で高安定なモノリシック微小二重共振器型SHGデバイスを提案する。本講演では数値計算による構造の最適化と、デバイス試作の結果について紹介する。