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[7p-C11-8] 局所的なキャリア注入を志向した分子性ドーパントの相分離構造
キーワード:二硫化モリブデン、分子ドーピング、相分離
キャリアの注入位置の制御は、半導体材料において接合界面の形成に関わる重要な課題である。二硫化モリブデン(MoS2) は、バンドギャップを有する層状物質であり、分子性ドーパントによるキャリア注入が報告されている。しかし、既報の例では局所的な配置を行うことは容易ではない。我々は、分子が示す自己パターン形成を利用することで、分子性ドーパントを局所的に配置し、接合界面を自発的に生成できると期待している。本研究ではMoS2に対するドナー分子であるBenzyl Viologen分子のパターン形成過程について検討を行ったので報告をする。