2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[7p-C23-1~22] 6.4 薄膜新材料

2017年9月7日(木) 13:45 〜 19:30 C23 (C23)

土屋 哲男(産総研)、室谷 裕志(東海大)

13:45 〜 14:00

[7p-C23-1] スパッタリング法によりSrTiO3(111)基板上に成長させたPt薄膜の検討

葛西 昌弘1、土肥 英幸1 (1.九州大水素)

キーワード:触媒、Pt 白金、エピタキシャル成長

著者らはこれまでに、燃料電池や水素製造に重要なPtを、触媒活性が無く電気的にも絶縁体であるSrTiO3 上にエピタキシャル成長させる検討を続けてきた。STO(100)基板を用いた場合、基板温度が700 ℃以下では十分な面内配向性が得られず、表面性状もアイランド状になることが分かった。本研究では、安定面である(111)面の成長を試みた結果について報告する。