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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[7p-C23-1~22] 6.4 薄膜新材料

2017年9月7日(木) 13:45 〜 19:30 C23 (C23)

土屋哲男(産総研)、室谷裕志(東海大)

17:30 〜 17:45

[7p-C23-15] 液体低温プロセス酸化物TFTを用いたリングオシレータの作製

〇乾京介¹、芳本祐樹¹、李金望¹、下田達也¹ (1.北陸先端大)

キーワード：液体プロセス、酸化物TFT、リングオシレータ