The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

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Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[7p-C23-1~22] 6.4 Thin films and New materials

Thu. Sep 7, 2017 1:45 PM - 7:30 PM C23 (C23)

Tetsuo Tsuchiya(AIST), Hiroshi Murotani(Tokai University)

7:00 PM - 7:15 PM

[7p-C23-21] TiO2 thin films prepared with a non-equilibrium plasma induced in a liquid phase

Ryosuke Okumura1, Junpei Sagisaka1, Yuki Masuda1, Masayuki Okuya1 (1.Shizuoka Univ.)

Keywords:non-equilibrium plasma, TiO2

本研究グループでは、これまでに大気圧下における非平衡二次元プラズマを利用した金属酸化物の製膜を報告した。本研究では、従来の製膜法をさらに改良し、液中プラズマを利用した新規製膜法を提案する。この手法では、液相中に配置したプラズマ発生用電極と基板の間にガスを注入して微小空洞領域を形成し、この領域にプラズマを発生させ、基板上の前駆体へプラズマ照射を行う。この方式により、従来法で課題となっていたプラズマ活性種の失活の低減による効率的な基板への照射が可能となり、効率的な製膜が期待される。本研究では、この新規製膜法によりTiO2膜の形成を試みた。