The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

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Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[7p-C23-1~22] 6.4 Thin films and New materials

Thu. Sep 7, 2017 1:45 PM - 7:30 PM C23 (C23)

Tetsuo Tsuchiya(AIST), Hiroshi Murotani(Tokai University)

7:15 PM - 7:30 PM

[7p-C23-22] Thin Film Growth of Cu3PdN by Pulsed Laser Deposition.

Koki Kanazawa1, Ryo Miyamoto1, Takahiro Urata1, Takafumi Hatano1, Kazumasa Iida1, Hiroshi Ikuta1 (1.Nagoya Univ.)

Keywords:Cu3PdN, PLD

近年、凝縮物質のバンドトポロジーが注目を集めている。Cu3PdNはディラック半金属であることが理論的に予測されている。さらに、C4結晶対称性を破るとトポロジカル絶縁体となることが予測されている。しかし、Cu3PdNナノ粒子の作製は報告されているが、詳細な電子物性の測定は報告されていない。そこで、我々はパルスレーザー堆積(PLD)法を用いて、Cu3PdN薄膜の作製に取り組み、その物性を測定した。