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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[7p-C23-1~22] 6.4 薄膜新材料

2017年9月7日(木) 13:45 〜 19:30 C23 (C23)

土屋哲男(産総研)、室谷裕志(東海大)

15:15 〜 15:30

[7p-C23-7] EDTA金属錯体溶液を用いたキレートフレーム法によるGd添加CeO₂粒子の合成

〇中村祥太¹、中村淳^2,1、小松啓志¹、齋藤秀俊¹ (1.長岡技科大（院）、2.中部キレスト)

キーワード：キレートフレーム法、Gd添加CeO2(GDC)、EDTA金属錯体溶液