2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

16 非晶質・微結晶 » 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[7p-C24-1~20] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2017年9月7日(木) 13:45 〜 19:00 C24 (C24)

梶原 浩一(首都大)、篠崎 健二(産総研)

17:15 〜 17:30

[7p-C24-14] P-Ge,Al-Ge 共添加シリカガラスにおける欠陥抑制効果

〇(M1)横瀬 啓1、関谷 エジソン晴彦1、斉藤 和也1 (1.豊田工大)

キーワード:Ge共添加、シリカガラス

シリカガラスにおいて、活性元素のクラスタリング抑制のために、AlやPの共添加が行われるが、AlやPに由来する光誘起欠陥の吸収が活性元素の励起波長域や発振波長域に影響することが知られている。今回、Ge共添加によって前述の光誘起欠陥の抑制効果があることが分かったため報告する。