2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

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[7p-PB1-1~8] 6.5 表面物理・真空

2017年9月7日(木) 13:30 〜 15:30 PB1 (国際センター2F)

13:30 〜 15:30

[7p-PB1-6] シリコン基板上シリコン酸化膜の室温電子線照射効果

増田 悠右1、遠田 義晴1 (1.弘前大院理工)

キーワード:シリコン酸化膜、電子線照射効果、走査電子顕微鏡

酸化膜に高電流密度電子線を照射すると、還元反応が生じ、その結果酸化膜脱離反応が生ずる。これによりデプスプロファイル測定に悪影響を及ぼす一方、新しいリソグラフィの可能性やナノクラスターの形成が示されている。しかし、酸化膜脱離効果やクラスタ形成の反応機構は、まだ不明な点が多い。本研究では、電子線照射効果について、深さ方向に関し、上述の反応機構解明の上で有用な知見を得たので、その結果を報告する。