2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[7p-PB4-1~12] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2017年9月7日(木) 13:30 〜 15:30 PB4 (国際センター2F)

13:30 〜 15:30

[7p-PB4-7] 共スパッタリング法によるMg2Si1-xSnx薄膜の形成

和田 英之1、〇勝俣 裕1、山本 栄也2、片岡 朋治2、広納 慎介2、石切山 守2 (1.明大理工、2.トヨタ自動車(株))

キーワード:Mg2Si、Mg2Sn、Mg2SiSn