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[7p-PB7-48] Fabrication of MTJ element of 20nm diameter by sliming method
Keywords:magnetic tunnel junction
より小さなMTJ素子を作成するため、EBレジストマスクを、ArとO2の混合ガスによる逆スパッタでスリミングすることを試みた。RA2.2のMTJ膜に、直径55nmのマスクを作成し、5分間スリミングし、素子を作成した。MRは105%、Hc=2.1kOeのマイナーループ、低抵抗での抵抗値は8650Ω、見積もった直径は18nmという磁気特性の良好な素子が作成できた。