2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.5 接合,回路作製プロセスおよびデジタル応用

[7p-S41-1~15] 11.5 接合,回路作製プロセスおよびデジタル応用

2017年9月7日(木) 13:15 〜 17:15 S41 (第1会議室)

田中 雅光(名大)、水柿 義直(電通大)

14:00 〜 14:15

[7p-S41-4] 量子計算応用に向けた強磁性ジョセフソン接合の作製

山下 太郎1,2、川上 彰1、寺井 弘高1 (1.情通機構、2.JSTさきがけ)

キーワード:超伝導、ジョセフソン接合、スピントロニクス

今回我々は、π接合量子ビットの実現に向けた第一歩として、π状態を示す強磁性ジョセフソン接合(超伝導/強磁性/超伝導接合)の作製と評価を行った。作製した素子の電流-電圧特性を測定した結果、明瞭なジョセフソン電流を観測した。またジョセフソン臨界電流及び常伝導抵抗ともに、5 – 50 μm角の様々な接合サイズに対して良い線形性が得られた。講演では、臨界電流のCuNi膜厚依存性及び温度依存性を示し、π状態実現の可能性とその条件について詳細に議論する。