2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

[7p-S43-1~17] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

2017年9月7日(木) 13:30 〜 18:15 S43 (第3会議室)

寺西 亮(九大)、舩木 修平(島根大)、一野 祐亮(名大)

18:00 〜 18:15

[7p-S43-17] 溶融水酸化物法を用いた導電性中間層及びREBCO層の低温成膜

舩木 修平1、添田 圭佑1、児島 康大1、山田 容士1 (1.島根大総理工)

キーワード:REBCO、導電性中間層、フラックス法

REBCO線材の低コスト化に向け,基材上に導電性中間層を介してREBCO層を堆積させた構造が提案されている.本発表では,これまで我々が報告してきた低温成膜手法である「KOHフラックス法」により,導電性中間層及びREBCO層を成膜した結果について報告する.