2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

[7p-S43-1~17] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

2017年9月7日(木) 13:30 〜 18:15 S43 (第3会議室)

寺西 亮(九大)、舩木 修平(島根大)、一野 祐亮(名大)

15:15 〜 15:30

[7p-S43-7] Br添加によるフッ素フリーMOD法YBCO薄膜の高特性化

元木 貴則1,4、池田 周平1、中村 新一1、土井 俊哉2,4、本田 元気3、永石 竜起3、下山 淳一1,4 (1.青学大理工、2.京大院エネ科、3.住友電工、4.JST-ALCA)

キーワード:YBCO薄膜、フッ素フリーMOD、臭素添加

REBCO薄膜の作製法のなかでも、フッ素フリーMOD法は量産プロセスに適した手法である。これまで我々は原料溶液へのCl添加により、Ba2Cu3O4Cl2(Ba2342)オキシクロライドが析出しYBCO母相の2軸配向を促進するとともにJc特性を改善するはたらきを有することを見出している。このBa2342のハロゲンサイトにはClだけでなくBrも導入可能であることが焼結体の研究から明らかになっている。講演では、フッ素フリーMOD法YBCO薄膜へのBr添加効果についてCl添加と比較して報告する。